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度和形变监测数据均在规格范围内。」
「聚焦于投影镜头系统。」AI继续分析，「虽然镜头更换后已完成校准，但在特定扫描角度下，可能存在残馀像差未被完全补偿。建议进行全视场像差映射测试以验证。」
张京京刚要下达测试指令，梁志远突然指着另一个监控屏：「等等，四号机台的冷却水温度曲线有异常波动。」
数据显示，在三点四十分到三点四十二分之间，光刻机冷却系统的出水温度发生了0.3摄氏度的周期性波动，波动周期，正是8.7秒。
「冷却水温度会影响镜头温度分布，进而改变光学性能。」张京京立即警觉，「检查冷却系统！」
设备工程师调出冷却系统的完整监控数据。水泵转速丶流量丶热交换器效率丶阀门开度……一切看起来正常。但「小芯」AI已经开始了更深入的分析。
「检测到冷却水循环系统中的压力脉动。」AI报告，「频率0.115赫兹，对应8.7秒周期。脉动幅度为额定压力的±1.2%，在系统允许范围内，但可能通过热传递耦合影响镜头温度场。」
「什麽原因导致压力脉动？」张京京问。
「正在分析。」AI接入冷却系统的所有传感器数据，开始构建流体动力学模型。
就在这时，墙上的环境监测大屏突然闪烁了一下。
不是屏幕故障，是真实的监测数据出现了瞬变。
「电磁场强度监测点EM-07读数异常！」章晴的声音提高了一个度，「背景电磁场强度在0.2秒内上升了三个数量级，频率……1.2兆赫兹！」
攻击来了。比预测的最早时间提前了二十三分钟。
张京京看了一眼时钟：三点四十七分。他强迫自己保持冷静：「启动全厂电磁防护，重点保护EUV光源和光刻机。『镜渊』系统保持运行，持续发送混淆数据。」
控制室里警报声轻轻响起，不是刺耳的紧急警报，而是预设的战术警报。这意味着情况在预料之中，但需要高度警惕。
金秉洙的声音从通讯器传来：「『追光二期』主动屏蔽层生效，外部干扰被衰减了90%以上。但屏蔽层本身消耗了额外功率，光源稳定度可能会轻微下降。」
「接受这个代价。」张京京回复，「只要保证光源不中断运行。」
攻击持续了四秒。环境监测数据显示，全厂有十二个点的电磁场强度超过了正常值，但都在设备耐受范围内。没有触发任何设备紧急停机。
四秒后，干扰消失，如同从未发生。
「攻击结束。」章晴报告，「强度约为昨日下午事故的1.4倍，持续时间4.2秒。但这次没有造成明显设备损坏。」
「因为我们提前做了防护。」梁志远松了口气，「而且『镜渊』系统误导了攻击者的判断，他们没有针对最脆弱的环节。」
但张京京没有放松。他盯着「小芯」AI的分析屏幕，上面冷却系统的流体模型正在运行。一个红色的警报框弹了出来：
「发现关键漏洞：冷却水压力脉动源于系统设计缺陷。主循环泵与备用泵的切换逻辑存在0.5秒重叠时间，在此期间两泵同时运行，产生流量干涉，引发压力脉动。该脉动通过管道传递至光刻机冷却模块，导致周期性温度波动。」
「设计缺陷？」张京京皱眉，「设备厂商的原始设计？」
「不。」AI调出了系统修改记录，「记录显示，三周前进行预防性维护时，维修团队调整了泵切换逻辑，将安全重叠时间从0.2秒增加至0.5秒，以确保无缝切换。但未考虑到两泵并联运行时的流体干涉效应。」
「谁做的调整？」梁志远的脸色沉了下来。
章晴调出工作日志：「维护工单号PM-2247，执行工程师……李工，已经在公司工作八年，背景乾净。调整理由写明是『避免切换过程中的流量中断风险』。」
听起来合情合理。但在一个精密的半导体工厂，任何「合情合理」的调整都可能隐藏着意想不到的后果。
「小芯，这个压力脉动如何影响曝光线宽？」张京京追问。
AI开始进行多物理场耦合仿真。屏幕上，冷却水压力脉动转化为管道壁的微小振动，振动传递到光刻机结构，改变镜头支撑系统的应力分布，进而导致镜头形状的纳米级畸变，这种畸变在特定扫描角度下会显着影响成像质量。
仿真结果与实测的线宽偏差模式高度吻合。
「所以真正的漏洞在这里。」张京京的声音带着一丝寒意，「不是电磁攻击直接损坏设备，而是它可能放大了系统内已有的设计缺陷。攻击者不需要破坏硬体，只需要找到这些脆弱点，然后用精确的干扰去触发它们。」
「就像用特定频率的声音震碎玻璃。」梁志远明白了，「玻璃本身有细微裂纹，平时没事，但特定频率的声